Профстандарт: Оператор прецизионной фотолитографии изделий микроэлектроники
Код: 40.236
Утвержден: приказом Министерства труда и социальной защиты Российской Федерации от 21.03.2022 № 147н
I. Общие сведения
Группы занятий по ОКЗ:
- 7549 - Квалифицированные рабочие промышленности и рабочие родственных занятий, не входящие в другие группы
Виды экономической деятельности по ОКВЭД:
- 26.11 - Производство элементов электронной аппаратуры
II. Описание трудовых функций
| Обобщенные трудовые функции | Трудовые функции | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| Код | Наименование | Уровень квалификации | Наименование | Код | Уровень (подуровень) квалификации |
| A | Проведение технологических процессов формирования фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании | 4 | Проведение технологического процесса нанесения слоя фоторезиста на поверхность пластин при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании | A/01.4 | 4 |
| Совмещение и экспонирование фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании | A/02.4 | 4 | |||
| Проявление фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на неавтоматизированном оборудовании | A/03.4 | 4 | |||
| B | Проведение технологических процессов формирования фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках | 4 | Проведение технологического процесса нанесения слоя фоторезиста, антиотражающего покрытия при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках | B/01.4 | 4 |
| Совмещение и экспонирование фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках | B/02.4 | 4 | |||
| Проведение технологического процесса проявления фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники на автоматизированных установках | B/03.4 | 4 | |||
| C | Контроль технологических процессов прецизионной фотолитографии при изготовлении изделий микроэлектроники и регулировка параметров при выявлении несоответствий | 4 | Контроль параметров фоторезистивной маски при изготовлении изделий микроэлектроники | C/01.4 | 4 |
| Выполнение действий при выявлении технологических несоответствий, возникающих при проведении процессов фотолитографии при изготовлении изделий микроэлектроники | C/02.4 | 4 | |||
III. Сведения об организациях – разработчиках профессионального стандарта
Ответственная организация-разработчик: Фонд инфраструктурных и образовательных программ, город Москва
Остались вопросы?
Свяжитесь с нами, и мы поможем найти нужную информацию о профессиональных стандартах